近日，公司子公司创微微电子有限公司自主研发的光掩模清洗设备在多家终端Fab厂完成验证并实现量产交付，提供的设备在颗粒控制、无水痕、表面洁净度上都满足先进制程要求。在光掩膜清洗领域，创微微电子已形成完整产品矩阵，覆盖5–9多种尺寸石英光掩膜，支持前后面全自动清洗、可选AOI颗粒检测、SMIF自动上下料，关键零部件国产化率超80%，软件完全自主开发。

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