▲图源：ASML报道称，此次出口管制名单新增了TWINSCANNXT:2000i、NXT:2050i及NXT:2100i等深紫外光（DUV）浸入式光刻设备。注意到，这一系列设备最高可支持5nm工艺，如台积电就使用SAQP和氩氟浸没(ArFi)光刻实现了7nm量产。此前，ASML最先进的极紫外光（EUV）光刻机已在出口管制列表当中。彭博社援引知情人士消息称，这一出口管制新规最早将在6月30日或7月第一周公布，有可能成为被其他欧盟成员国效仿的对象，荷兰政府发言人对此不予置评。报道指出，这是荷兰和日本今年1月原则上同意加入美国限制对中国大陆出口先进半导体制造设备的行动以来的最新举措，荷兰贸易部长Schreinemacher称，荷兰以国家和国际安全考量，有必要尽快限制先进半导体技术出口。